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            臭氧產品
            首頁 > 臭氧知識 > 臭氧問答 > 半導體使用臭氧水清洗處理方法
            2023-01-31????來源:http://www.mysticalroads.com/???瀏覽量:????
            半導體使用臭氧水清洗處理方法
            ①減少化學藥品的使用
            a) 半導體用化學藥品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW),但是SC1 和SC2是相對較貴,并且需在60-100 ℃的高溫條件下發生作用,難以使用。而近年,臭氧水作為可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式, 受到廣泛關注。因為僅僅是將純凈水通過臭氧水生成器,便可以簡單地產生臭氧,因此可大大降低運營成本。
            b) 使用臭氧水進行清洗處理后,臭氧成分便迅速蒸發,因此廢水處理也十分容易。
            ②出色的清洗能力(顆粒, 金屬污染物,有機物質)
            因為臭氧擁有僅次于氟素的氧化還原能力,其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很難氧化的碳化硅或氮化鎵基板也十分有效。(兩者作為半導體材料受到廣泛關注)
            推薦的清洗處理方法
            ※清洗裝置使用枚葉式主軸。

            標簽:臭氧水(8)清洗(2)半導體(2)處理方法(1)


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